氧化鈣顆粒制備工藝主要包括高溫煅燒法、濕法化學合成法及機械造粒法，三者因原料處理方式、設備要求及產品特性存在顯著差異。

　　高溫煅燒法是傳統工業主流工藝，以石灰石(碳酸鈣含量≥90%)為原料，經回轉窯或立窯在900-1200℃高溫下分解生成氧化鈣。該工藝產能大，單線可達10噸/小時，但需嚴格控制煅燒溫度與氣氛，溫度偏差超過±10℃會導致過燒或分解不完全，影響產品活性度(需≥90%)。典型應用如冶金助熔劑、煙氣脫硫劑，顆粒需滿足3-5mm粒徑、40%以上孔隙率要求。

　　濕法化學合成法通過酸堿反應制備高純度氧化鈣。例如將碳酸鈣與鹽酸反應生成氯化鈣，再經氨水中和、碳酸氫鈉沉淀、1000℃高溫煅燒，可制得99.999%純度的醫用級氧化鈣。該工藝能精準控制顆粒形貌，如制備納米級氫氧化鈣(比表面積>80m2/g)，但需處理酸堿廢液，三級沉淀后pH值需調至6-9方可排放。

　　機械造粒法針對粉末氧化鈣進行二次成型，分干法壓粒、濕法黏結、噴霧造粒三類。干法壓粒通過高壓輥壓直接成型，顆粒密度高但能耗大;濕法黏結需添加聚乙烯醇或淀粉膠體，圓盤造粒機轉速20-30轉/分鐘可制得均勻球體;噴霧造粒將懸浮液霧化后瞬間干燥，形成空心微球，比表面積大但設備成本高。農業用顆粒需包覆石蠟緩釋層，防止土壤pH突變。

　　工藝選擇需平衡成本與性能：大規模生產優先高溫煅燒法，精細化需求采用濕法化學合成，粉末改性則用機械造粒法。